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チタンターゲット
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チタンターゲット

チタンターゲット

原材料規格: ASTM B265 / ASTM B348 / F67/ 136、DIN、AMS
利用可能なグレード: Gr1 / Gr2 / Gr5 / Gr7
準拠: ISO 9001 / AS9100
形状: 円形ターゲット、長方形/平面ターゲット、チューブターゲット、特殊な形状および段付きターゲット-
サイズ: 図面または技術仕様に従ってカスタマイズ

チタンターゲットとは何ですか?

 

Ti ターゲットは、基板上にチタンまたはチタンベースの薄膜を堆積するために PVD ​​およびスパッタリング システムで使用される高純度チタン材料(99.5% 以上の Ti)です。{0}{2}

Titanium sputtering target

高度な溶解・鍛造・精密機械加工により製造されており、高密度・微細な結晶粒組織と安定したスパッタリング性能を実現しています。

 

これらは、優れた膜密着性、耐食性、およびコーティングの均一性を提供するため、半導体製造、LCD および OLED ディスプレイ、メモリー電極、光学コーティング、装飾用 PVD ​​コーティングで一般的に使用されています。

Tiターゲットの物理的および化学的特性

 

 

財産

代表値

密度

4.50 – 4.52 g/cm3

融点

1668±5度

純度

99.5% – 99.99% (2N5 – 4N)

熱膨張

8.6 × 10⁻⁶ / K

微細構造と内部品質

密度 99.5% 以上

均一な細粒構造-

層間剥離なし

目に見える内包物はありません

気孔や亀裂がないこと

包装

真空密閉 + 乾燥剤 + 耐衝撃性の木製ケース-

リードタイム

ほとんどのサイズで 2 ~ 4 週間

Ti ターゲット サイズ範囲

 

平面および円形のターゲット

タイプ

厚さ

幅/直径

長方形のターゲット

0.125 インチ以上

12インチ以下

ラウンドターゲット

0.125 インチ以上

1.0インチ – 21.0インチ (25.4 – 533.4 mm)

チューブターゲット

0.125 インチ以上

12インチ以下

表面粗さ

  • スパッタ面:Ra 1.6μm以下
  • 非スパッタリング面: Ra 3.2 μm 以下
High purity titanium target
品質管理と検査
  • 化学組成分析
  • 機械的特性試験
  • 寸法検査および目視検査

必要に応じて、次のものを受け取ることができます。

  • 工場試験証明書 (MTC)
  • 検査報告書

カスタムチタンターゲット機能

 

ターゲットを完全にカスタマイズできます。

1. 純度のオプション

99.5% ~ 99.999%

2. サイズと厚さ

  • 標準以外のサイズもサポート-
  • 最小加工厚さ:1mm

3. 粒度制御

  • 熱処理による制御
  • 20 ~ 200 μm の粒径が利用可能

4. 結合ターゲット

バッキング プレートは以下から選択できます。

  • 銅(Cu)
  • アルミニウム(Al)
  • モリブデン(Mo)

5. 表面仕上げ

旋回、研削、研磨、サンドブラスト

6. 複雑な形状

段階的なターゲット、セグメント化-結合されたターゲット、特殊な輪郭

Custom Titanium Target

チタンターゲットに関するよくある質問

チタン スパッタリング ターゲットは、高温または高出力のスパッタリングで使用できますか?{0}}

はい。
高純度のチタン ターゲットは、ほとんどの高温スパッタリングに適しています。-
極端な電力負荷または継続的な工業生産の場合、グレード 5 (Ti-6Al-4V) ターゲットは、より高い機械的強度と熱安定性を提供します。

チタンスパッタリングターゲットは海外に輸出できますか?

はい。
航空、船、速達 (DHL、FedEx、UPS) で発送できます。
すべての輸出用梱包は、耐衝撃性、防湿性、酸化性-、-保護されています。-

ターゲットとチタンPVDターゲットの違いは何ですか?

チタン PVD ​​ターゲットは、高精度スパッタリング用に特に最適化されており、より優れた成膜効率と膜の均一性を実現します。{0}標準ターゲットはより汎用性が高く、幅広い工業用コーティング アプリケーションに適していますが、常に超高精度 PVD ​​システムに最適化されているわけではありません。--

 

 

 

 

製造工程

 

Titanium Target Process

 

 

 

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